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高純鉻靶的目標雜質控制：如果靶中的夾雜物數量過多，則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒，從而導致互連線短路或斷開，這將嚴重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數夾雜物是在冶煉和鑄造過程中形成的，主要由氧化物組成，但也包括氮化物，碳化物，氫化物，硫化物，硅化物等，因此應在冶煉和鑄造過程中使用。坩堝，內部 流道，鑄模等由還原性材料制成，在澆鑄之前，應將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。 通常，它們在真空或無氧環境中熔融并澆鑄。鉻靶批發、鉻靶價格在市場也是不一樣的。
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