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可以根據客戶要求提供平面圓靶，方靶，臺階靶、旋轉靶均可加工、顆粒、網、箔、粉末、坩堝、異形件定制。鼎偉新材料提供鍍膜靶材：銅、鋁、鉻、鎢、鉬、鎳、鉿、鉭、鈮、鋯 AZO ITO 石墨 陶瓷..
高純鉻靶的目標雜質控制：如果靶中的夾雜物數量過多，則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒，從而導致互連線短路或斷開，這將嚴重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數夾雜物是在冶煉和鑄造過程中..
高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布：通常，目標材料具有多晶結構，并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材，細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快，而晶粒尺寸..
東莞市鼎偉靶材有限公司是專業生產高純金屬材料，蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的**企業應用開發的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸發材料專業為技術依托，擁有多名..
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